硅片除气装置生产厂家-科创真空-海南硅片除气装置

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    2022-7-25

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真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸:定制

2、加热功率:30-80 kw(实际功率可调)

3、加热元件:钼片

4、隔热组件:钼+不锈钢

5、温度测量:s型热电偶

6、控温精度:±1℃

7、升温速率 :由室温升至1000℃小于80min(空载)

8、加热室:采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构,各层之间采用99刚玉陶瓷,---体为钼片,钼片均匀环绕在隔热屏周围,实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢(310s)板材料,并且焊接多道加强筋以---不变形。

9、加热控制:采用pid智能控温模块设计,硅片除气装置品牌,可编辑30+段升温曲线,存贮20+组工艺配方,海南硅片除气装置,组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能,10寸液晶触摸屏显示操作,硅片除气装置厂家,具有操作方便,功能---,硅片除气装置生产厂家,稳定性好等特点。




真空除气炉、真空存储柜的保养维护

保修期满后,供方将以优惠价格向用户提供备品备件,并对设备提供有偿技术和维修服务;

设备安装调试时,对用户进行技术培训,培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁,不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁,可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。




高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点: 

 ---真空度高;

 控温精度高;

 更高的升温速率;

 智能化;

 可真空去除产品空洞与气泡;

 降低产品的氧化性;

 提高工艺室的洁净度。




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